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三益半導体工業株式会社（法人番号 5070001009541）

三益半導体工業株式会社は群馬県高崎市に所在する株式会社です（法人番号 5070001009541）。設立は1969年。業種は製造業。厚生年金の適用事業所は1か所、被保険者数は合計1,231人です。適格請求書発行事業者として登録されています（登録番号 T5070001009541、2023-10-01登録）。このページでは役員12件、大株主10件、EDINET書類8件、グループ会社1件、官報1件、知財8件を出典つきで収録しています。

商号
三益半導体工業株式会社
フリガナ
ミマスハンドウタイコウギョウ
法人番号
5070001009541
法人種別
株式会社
所在地
〒370-3533 群馬県 高崎市 保渡田町２１７４番地１
代表者
代表取締役社長    八  髙  達  郎
業種
製造業
資本金
188億円
従業員数
1,165人
厚生年金被保険者数
1,231人
設立
1969-06-04
インボイス登録番号
T5070001009541（2023-10-01 登録）
法人番号指定日
2015-10-05
最終更新
2018-09-07

事業概要

半導体材料の加工

収録データ

役員12件／大株主10件／EDINET書類8件／グループ会社1件／官報1件／知財8件

事業所・拠点

事業所所在地厚生年金被保険者数状態
三益半導体工業　株式会社群馬県 高崎市 保渡田町 2174番地11,231人適用中

出典: gBizINFO 事業所情報。被保険者数は厚生年金の適用対象者数で、従業員数とは一致しません。

役員

役職氏名
代表取締役会長中 澤 正 幸
代表取締役社長八 髙 達 郎
専務取締役哲 生
取締役業部長今 村 耕 一
取締役術部長丸 山 文 明
取締役中 村 修 輔
取締役今 井 昌 子
取締役星 野 公 洋
常勤監査役岩 倉 輝 夫
監査役村 岡 正 三
監査役楠 原 利 和
監査役湯 浅 幸 男

出典: EDINET 有価証券報告書

大株主

順位株主保有比率
1信越化学工業株式会社42.75%
2日本マスタートラスト信託銀行株式会社(信託口)7.87%
3中 澤 正 幸6.16%
4ＭＳＩＰ　ＣＬＩＥＮＴ　ＳＥＣＵＲＩＴＩＥＳ(常任代理人 モルガン・スタンレーMUFG証券株式会社)4.59%
5野村證券株式会社自己振替口2.49%
6株式会社日本カストディ銀行（信託口）2.29%
7株式会社群馬銀行(常任代理人 株式会社日本カストディ銀行)2.18%
8ビ－エヌワイエム　エスエ－エヌブイ　ビ－エヌワイエム　ジ－シ－エム　クライアント　アカウンツ　エム　エルエスシ－ビ－　ア－ルデイ(常任代理人 株式会社三菱UFJ銀行)1.49%
9ビ－エヌワイエム　アズ　エ－ジ－テイ　クライアンツ　１０　パ－セント(常任代理人 株式会社三菱UFJ銀行)1.34%
10ジエイピ－　ジエイピ－エムエスイ－　ルクス　ノムラ　インタ－ナシヨナル　ピ－エルシ－　１　エク　コル(常任代理人 株式会社三菱UFJ銀行)1.32%

出典: EDINET 有価証券報告書

決算

事業年度売上高経常利益純利益
第55期(自  2023年６月１日  至  2024年５月31日)[object Object][object Object][object Object]
第55期(自  2023年６月１日  至  2024年５月31日)[object Object][object Object][object Object]
第55期(自  2023年６月１日  至  2024年５月31日)[object Object][object Object][object Object]
第55期(自  2023年６月１日  至  2024年５月31日)[object Object][object Object][object Object]
第55期(自  2023年６月１日  至  2024年５月31日)[object Object][object Object][object Object]

出典: gBizINFO（EDINET 由来）

官報の決算公告

掲載日期間純資産当期純利益
2026-05-26第57期917億円97億円

出典: 官報

知的財産

区分登録番号出願日名称
特許73303072022-01-13処理液回収機構付ウェーハ表面処理装置及びウェーハ表面処理方法
特許73303072022-01-13処理液回収機構付ウェーハ表面処理装置及びウェーハ表面処理方法
特許73303072022-01-13処理液回収機構付ウェーハ表面処理装置及びウェーハ表面処理方法
特許73303072022-01-13処理液回収機構付ウェーハ表面処理装置及びウェーハ表面処理方法
特許73303072022-01-13処理液回収機構付ウェーハ表面処理装置及びウェーハ表面処理方法
特許73303072022-01-13処理液回収機構付ウェーハ表面処理装置及びウェーハ表面処理方法
特許73303072022-01-13処理液回収機構付ウェーハ表面処理装置及びウェーハ表面処理方法
特許73765552021-11-09ウェーハ及びウェーハ積層体兼用のウェーハ保持構造並びに保持方法

出典: gBizINFO（特許庁 由来）

EDINET 提出書類

提出日書類種別内容
2024-10-18臨時報告書臨時報告書
2024-09-12臨時報告書臨時報告書
2024-08-30臨時報告書臨時報告書
2024-08-29有価証券報告書有価証券報告書－第55期(2023/06/01－2024/05/31)
2024-08-06臨時報告書臨時報告書
2024-07-18訂正四半期報告書訂正四半期報告書－第55期第3四半期(2023/12/01－2024/02/29)
2024-04-12四半期報告書四半期報告書－第55期第3四半期(2023/12/01－2024/02/29)
2024-01-12四半期報告書四半期報告書－第55期第2四半期(2023/09/01－2023/11/30)

出典: EDINET

グループ会社

信越化学工業㈱

出典: EDINET 有価証券報告書

出典

国税庁 法人番号公表サイト ／ gBizINFO ／ 国税庁 適格請求書発行事業者公表サイト

掲載内容は各出典の公表データをもとにしています。最新かつ正式な内容は出典元で確認してください。